反渗透设备的后处理阶段,是对反渗透产水(纯水)进行深度提纯或水质调节,以满足不同场景的用水标准(如工业超纯水、实验室用水、饮用水等)。该阶段步骤并非固定,需根据最终用水需求灵活配置,核心步骤如下:
1. pH 值调节(酸碱中和)
反渗透膜对二氧化碳的截留率较低,产水会因溶解二氧化碳形成碳酸,呈弱酸性(pH 通常在 5.0–6.5)。
适用场景:锅炉补给水、电子行业用水等对 pH 有严格要求的场景。
操作方式:向产水中投加少量氢氧化钠溶液,将 pH 值调整至 6.5–8.5 的中性范围;部分系统也可通过曝气脱除二氧化碳,再调节 pH。
作用:避免酸性水腐蚀后续管路和设备,同时满足特定工艺的水质要求。
2. 深度脱盐提纯(制取超纯水核心步骤)
反渗透产水虽已去除 99% 以上的离子,但仍残留微量盐分,无法满足超纯水需求(如电子半导体、制药、实验室用水),需进一步深度提纯:
混床离子交换
由阳离子交换树脂和阴离子交换树脂按比例混合装填而成,产水中残留的微量阳离子(如 Ca²⁺、Mg²⁺)和阴离子(如 Cl⁻、SO₄²⁻)会被树脂吸附,出水电阻率可提升至 10–18.2MΩ·cm,达到超纯水标准。
缺点:树脂饱和后需用酸碱再生,会产生废水。
EDI(电去离子)
是混床的升级替代技术,结合了离子交换和电渗析原理,在电场作用下持续再生树脂,无需化学再生,可连续稳定产出电阻率 15–18.2MΩ·cm 的超纯水。
优势:环保无废水、运行自动化程度高,是工业超纯水制备的主流选择。
3. 杀菌消毒(保障用水安全)
主要用于饮用水、医药用水、食品加工等对微生物含量有要求的场景,去除反渗透产水中可能残留的微量细菌、病毒:
紫外线杀菌
利用 254nm 波长的紫外线破坏微生物的 DNA 结构,使其失去繁殖能力,杀菌效率高且无化学残留,是最常用的方式。
臭氧消毒
臭氧具有强氧化性,能快速杀灭微生物,还可分解水中微量有机物;但需设置后续活性炭过滤单元,去除残留臭氧,避免影响用水水质。
终端微滤 / 超滤
在用水点前加装 0.22μm 的微孔滤膜或超滤膜,拦截可能穿透前序环节的微生物颗粒,作为 “终端保障”。
4. 脱气处理(去除溶解气体)
针对对溶解氧、二氧化碳敏感的场景(如电子行业超纯水、锅炉给水):
常用设备:真空脱气机或膜脱气机。
作用:去除水中溶解的氧气、二氧化碳等气体,防止设备腐蚀,同时避免气体影响水的电阻率稳定性。
5. 终端抛光(超高纯度需求)
适用于芯片制造、精密仪器分析等对水质要求极高的场景:
核心设备:抛光混床(采用高纯度树脂)。
作用:进一步去除 EDI 产水中的痕量杂质,使出水电阻率稳定在 18.2MΩ·cm(理论纯水值),同时降低总有机碳(TOC)含量至 ppb 级。
一体化撬装超滤系统,全部设备集成在钢制撬座上,包含增压泵、自清洗过滤器、超滤膜组件、产水罐、清洗系统、PLC 控制柜、全套管路仪表。设备出厂预组装,现场只需对接水电即可投运;膜选用抗粉体污染改性 PV
高洁净型超滤成套系统,采用低析出 PES 中空纤维膜,配套抛光不锈钢洁净管路、精密保安过滤器、全自动在线清洗单元、冗余仪表监测。整机洁净设计,无二次析出污染;系统采用 N+1 冗余设计,可在线检修不中
整套超滤系统由预处理单元、超滤主机、清洗单元、自控仪表系统组成。膜组件选用耐化学 PVDF 中空纤维膜,配套防腐管路、耐酸碱药剂箱,适配化工废水水质波动大、腐蚀性强的工况。系统具备手动 / 自动双模式
成套超滤系统包含原水箱、增压泵、自清洗过滤器、超滤膜组件、产水箱、清洗药箱、PLC 自控系统、阀门管路、仪表。整机采用模块化撬装结构,选用抗污染 PVDF 中空纤维膜,支持气水联合反洗、化学清洗。广泛
手动工业软水器,配置手动多路阀,无自动电控系统,依靠人工切换阀门完成制水、反洗、吸盐、冲洗工序。结构简单,造价低,适合用水量小、间断生产、现场有运维人员的小型工厂,如小型压铸、涂料、小型换热站。
循环冷却水软水器,专为中央空调、工业冷却塔、闭式循环冷却系统补水设计。软化后的水作为循环水补水,降低循环水体总硬度,减少冷却塔、换热器、冷却管道内壁碳酸钙、碳酸镁水垢,提升换热效率,减少化学阻垢药剂投
水力驱动软水器,依靠水压驱动多路阀动作,无需外接电源,无电气元件,适用于石油、化工、油气车间等防爆危险区域。采用双罐一用一备结构,全程水力自动切换,完成制水、再生循环,杜绝电气火花隐患。
多阀多罐大型软化系统,多台树脂罐并联组合,PLC 可编程集中控制柜,单罐独立多路阀控制。可实现单罐独立再生,其余罐体持续供水,满足大型化工、热电、造纸厂区大流量集中软水需求。系统具备水质在线监测、流量