该反渗透设备聚焦半导体外延片生产工序，提供超高纯度生产用水，适配硅外延片、砷化镓外延片等各类外延片生产，解决外延片生长过程中水中微量杂质导致的晶体缺陷、外延层不均匀等问题，满足外延片生产的电子级超纯水...
基础参数：
采用“预处理+一级RO+二级RO+EDI+抛光混床”组合工艺，原水经预处理系统去除泥沙、悬浮物、余氯、有机物等杂质；一级RO与二级RO系统逐步去除水中离子、大分子杂质，提升水质纯度；EDI深度除盐系统降低电导率，抛光混床进一步提纯，去除微量残留离子，最终产出超高纯度纯水；设备通过PLC智能控制系统，实现全流程自动化运行，实时监测水质指标，确保出水水质稳定，满足外延片生长的严苛要求。
1. 产水量：5-45m³/h（可定制）； 2. 出水水质：电导率≤0.05μS/cm，电阻率≥18.2MΩ·cm，SiO₂≤5μg/L，颗粒物（≥0.1μm）≤1个/mL； 3. 反渗透膜：进口陶氏BW30-400IG，脱盐率≥99.9%； 4. 操作压力：1.2-1.6MPa； 5. 进水要求：浊度≤0.3NTU，SDI≤2，余氯≤0.05mg/L，水温15-35℃； 6. 运行功率：15-110kW（根据产水量定制）； 7. 控制方式：PLC全自动控制，支持远程监控、水质在线监测、故障自动报警。
1. 出水纯度极高，达到电子级超纯水标准，有效避免杂质影响外延片晶体生长，提升外延片质量与合格率； 2. 多级提纯工艺，水质稳定性强，可长期保持出水指标达标，适配外延片连续生产需求； 3. 采用进口核心部件（反渗透膜、EDI模块），运行效率高，使用寿命长，降低后期运维成本； 4. 全自动运行，无需人工值守，配备自动反洗、停机保护等功能，运维便捷； 5. 水回收率高（≥75%），能耗低，契合半导体行业绿色生产、节能降耗要求； 6. 设备抗干扰能力强，适配外延片生产车间的洁净环境，运行稳定，故障率低； 7. 模块化设计，可根据外延片产能提升灵活扩容，适配企业产能升级需求。
该反渗透设备聚焦半导体外延片生产工序，提供超高纯度生产用水，适配硅外延片、砷化镓外延片等各类外延片生产，解决外延片生长过程中水中微量杂质导致的晶体缺陷、外延层不均匀等问题，满足外延片生产的电子级超纯水
查看更多
该反渗透设备专为PCB电路板（单面板、双面板、多层板）生产设计，提供高纯度清洗、蚀刻、电镀用水，解决电路板生产中水中杂质导致的线路短路、镀层不均、板面发黑等问题，满足电路板生产的电子级纯水标准，适配各
查看更多
该反渗透设备适配半导体封装测试全流程，提供高纯度、无杂质的测试用水与封装用水，解决封装测试过程中水中微量杂质导致的测试数据偏差、芯片封装失效等问题，满足半导体封装测试的电子级纯水要求，适配中高端半导体
查看更多
该反渗透设备专为电子元器件（电阻、电容、二极管、三极管）封装工序设计，提供高纯度生产用水，解决封装过程中水中杂质导致的封装密封不严、引脚腐蚀、元器件寿命缩短等问题，满足电子元器件封装的纯水标准，适配各
查看更多
该反渗透设备聚焦半导体晶圆清洗工序，提供高纯度、无残留的清洗用水，适配8英寸、12英寸晶圆的清洗需求，解决清洗过程中水中杂质残留导致的晶圆表面划伤、电路短路等问题，确保晶圆表面洁净度，为后续光刻、封装
查看更多
该反渗透设备专为电子芯片生产全流程设计，提供高纯度、无杂质的生产用水，适配芯片光刻、蚀刻、封装等核心工序，解决芯片生产中水中微量离子、有机物、颗粒物等杂质导致的芯片性能下降、良品率降低等问题，满足电子
查看更多
该反渗透设备专为发电厂循环水处理设计，适用于火力发电厂、热电厂的循环冷却水净化与回用，可去除循环水中的悬浮物、有机物、盐类等杂质，降低循环水浊度与硬度，减少设备腐蚀、结垢，延长循环水系统设备使用寿命，
查看更多
该反渗透设备聚焦化工工艺脱盐与纯水制备需求，适用于各类化工领域，可实现原水深度脱盐，去除水中各类可溶性盐类、重金属离子、有机物等杂质，产出高纯度脱盐纯水，用于化工反应、产品提纯、设备清洗等环节，确保化
查看更多
新乡市利菲尔特滤器股份有限公司（商标：聚利特达）
地 址：河南省新乡市市辖区高新技术产业开发区过滤工业园B1座、E3座
扫一扫 添加好友